|
| 彰化師範大學創意創新創業研究中心主任王信文。（中評社 方敬為攝） |
中評社彰化12月19日電（記者 方敬為）美國要求荷蘭ASML公司加入對中晶片禁令，由停止供應EUV設備擴大至DUV設備。彰化師範大學創意創新創業研究中心主任王信文接受中評社訪問表示，ASML因此營利損失，企業執行長反彈，加上美、中、日都在發展EUV相關技術，讓技術龍頭ASML出現危機意識，對中斷供更可能加速中方研發技術突圍，美國過於緊縮的對中禁令，或現反作用力。
王信文，交通大學管理學博士，彰師大三創暨管理科技研究中心主任、全球管理暨服務科學評論主編。曾任北京大學光華管理學院調研學者、美國柏克萊加州大學訪問學者、美國加州大學爾灣分校短期研究員等職，研究專長包括國企跨境電商策略、大數據行銷決策、區塊鏈、資通訊5G整合與智慧機械等。
美國持續擴大對中國的半導體技術圍堵，近日要求半導體微影曝光設備龍頭荷蘭ASML公司對中國禁售設備範圍從生產先進製程晶片的極紫外光（EUV）微影設備，擴大到次一級的深紫外光（DUV）浸潤式微影設備。ASML執行長韋尼克（Peter Wennink）就向媒體埋怨，荷蘭政府2019年配合美國禁止ASML出口最先進EUV設備到中國，反而讓銷售替代技術的美國設備商得利。
針對美國施壓ASML設備斷供中國，王信文認為，美國過度對中實施半導體技術圍堵，可能出現反效果，幾個面向可以觀察，首先，ASML執行長公開質疑並代表企業立場反彈美國的禁令要求，代表美方強制的行為，已造成業界損害、不滿聲浪上升。
其次，王信文指出，美國對中的圍堵網路緊密，可能促使中國投入更多力道自主研發突圍。雖然現在EUV技術是ASML獨步全球，是高階製程晶片所仰賴的途徑，但所有技術的研發，不會只有單一路徑、方法，其實不同的路徑也可能達到相同目的，這是歷史經驗，觀察EUV技術，其實包括美國、中國、日本、韓國、歐洲等地都在設法研發，飽受美國打壓的中國華為公司也有相關進展。
他說，上述情況顯現，目前雖然只有ASML有辦法將EUV技術給實用化，並成為市場技術的領頭羊，但是不代表其他公司在未來就無法開展出EUV光刻技術，只是要設法回避專利、技術到位，這個部分相信只要有足夠的資金及人才專注投入，發展出來只是遲早的事，經驗法則告訴我們，沒有一項技術能夠永遠獨步全球。
王信文提到，以華為來講，從2015年一直到現在，都是美國打壓的眼中釘，可是禁令越來越嚴格，華為轉型的進程也越來越積極，近來包括與日本的Canon、Nikon談技術合作。韓國三星也發布新聞稿，未來將交叉授權98項專利給華為，連同過去陸續的授權，專利授權數量達到上百之多，顯示出華為正透過本身的技術立基，持續設法突破美國的禁令圍堵。
王信文說，畢竟過去也曾經有人成功做到“類極紫外光”的晶片生產，也就是可以不必依靠ASML的光刻機器設備生產晶片，只是程序比較繁複，生產成本較高，同時在良率、產能上也相對弱勢。
不過，他表示，上述例子也就顯示，晶片生產未必需要依賴特定廠商的技術或設備，癥結在於，如何克服成本、良率、產能等問題。面對中國積極突圍外，他國為了繞過ASML各自開展EUV技術的行為，也將使ASML出現危機意識，進而對美方的要求抗拒，這都可能導致反作用力發生。 |
